Метод магнетронного распыления – наиболее эффективная технология нанесения PVD покрытий

---

Среди всех существующих покрытий PVD покрытия занимают лидирующие позиции в силу своей универсальности и высокой эффективности (см., Классификация PVD покрытий). Эти покрытия получаются в результате поатомной сборки в среде беспримесного вакуума или в атмосфере чистых газов. PVD покрытия могут иметь практически любые составы и структурные модификации. При этом покрытия могут обладать уникальными свойствами, превосходящими свойства аналогичных по составу компактных материалов. По сути, любая PVD технология состоит из трех процессов: (1) получение потока атомов, требуемых для построения покрытия, из компактного материала (мишени); (2) перенос атомов к поверхности изделия; (3) послойный рост покрытия на поверхности изделия. В зависимости от способа реализации процесса (1) различают испарительные и распылительные методы нанесения PVD покрытий.
	На сегодняшний день наиболее универсальным и перспективным методом получения всего спектра PVD покрытий (от традиционных металлических до многофазных нанокомпозитных покрытий) признается метод магнетронного распыления. В данном методе удачно сочетаются технологические факторы, способствующие получению плотных микро- и нанокристаллических структур, которые обеспечивают экстраординарные свойства покрытий.
Наша компания использует в своих технологиях все наиболее эффективные и промышленно адаптированные модификации метода магнетронного распыления – от традиционных сбалансированных магнетронов (получение резистивных металлических покрытий для микроэлектроники), несбалансированных магнетронов (получение традиционных покрытий тонкопленочной керамики) до несбалансированных дуальных магнетронов (получение сверхтвердых многофункциональных нанокомпозитных покрытий). В ближайшее время в наших разработках появится новая высокоэффективная магнетронная технология HIPIMS, промышленное использование которой активно исследуется в ведущих мировых вакуумных центрах.